1、可以用氫氟酸清洗;
2、用發(fā)煙硝酸或是熱濃硫酸洗或浸泡3到五分鐘,必要時再或是重復(fù)幾次都可以洗凈。
3、高溫?zé)?,蒸汽吹?/span>
4、丙酮溶液超聲3-5分鐘,無水乙醇超聲3-5分鐘,前后反復(fù)兩遍,后用熱、冷去離子水沖洗。
5、用HF溶液(HF:H2O)泡30秒,沖去離子水15分鐘。
6、用I號洗液(NH4OH:H202:H20),先把去離子水加熱至85°C,倒入NH4OH和H202,放入晶片,在燒杯中煮15分鐘,后用去離子水沖6-7遍;
7、用稀釋HF溶液(HF:H2O)泡30秒,沖熱去離子水15分鐘;
8、用II號洗液(HCl:H202:H20),先把去離子水加熱至85攝氏度,倒入HCl和H202,放入晶片,在燒杯中煮15分鐘,后沖熱去離子水15分鐘,沖冷去離子水5分鐘;
9、吹干后,烘干備用。
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