| 石英筒脫羥時(shí)間 |
| 新聞來(lái)源： 點(diǎn)擊數(shù)：2748 更新時(shí)間：2014-3-25 9:30:24 收藏此頁(yè) |
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石英筒脫羥時(shí)間取決于石英筒的制備工藝及規(guī)格尺寸、所采用的脫羥氣氛及溫度。大口徑石英管
在正常熔制情況即氧化或中性氣氛下如以SiCl4為原料
氫氧焰為熱源高溫水解氣相沉積合成的石英筒和以水晶為原料、氫氧焰為熱源煉熔制的石英筒中大部分羥基呈穩(wěn)定狀態(tài)，制品的規(guī)格尺寸大的話，即使脫羥基時(shí)間再長(zhǎng)也很難將其中的羥基全部脫出。通常0.5~1.0mm厚合成和氣煉石英筒片在真空或干燥的N2、1050℃的脫羥條件下，經(jīng)過(guò)140h以上方可脫出50%左右的羥基，時(shí)間再長(zhǎng)幾乎不再脫出。
而在富氫的還原性氣氛下熔制的石英筒如以H2為保護(hù)性氣體的連熔爐熔制的石英筒，由于氧缺陷的存在，石英筒中的羥基亞穩(wěn)狀態(tài)，很容易擴(kuò)散放出H2，如1~1.5mm厚的煉熔大口徑石英管在真空或流動(dòng)的干燥N2、1050℃的脫羥條件下，經(jīng)過(guò)2h即可脫出90%以上的羥基。同樣，若在富氫的還原性氣氛下合成或氣煉的石英筒，相同脫羥條件，也可大幅度增加脫羥量。
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